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反滲透純水設備系統(tǒng)化學清洗藥劑的注意事項

發(fā)布時間:2014-07-04 10:02:34來源:純水設備瀏覽次數:3513

化學清洗是反滲透純水設備系統(tǒng)清洗的主要方法,一般分兩種清洗方式:一種是在線清洗;另一種是離線清洗。在進行清洗

前,我們首先要做到就是弄清楚化學藥劑清洗的注意事項。

清洗所用的化學物質欲污染物相互作用,通過溶解或者分離,從而從反滲透RO膜表面清除掉污染物,這是純水設備反滲透系

統(tǒng)化學清洗的原理。改方法通常在沖洗之后采用。定期進行化學清洗以及在系統(tǒng)出現重大故障之前進行預防性的維護是非常好

的做法。在化學清洗之后,使用水處理預處理過的原水或產水(最好是采用產水)將污染物徹底沖洗出超純水設備RO系統(tǒng)。

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表1.1清洗注意事項

化學清洗注意事項
清洗藥劑配置用水軟化水或者產品水,無重金屬、余氯或者其它氧化劑
清洗藥劑量每支8英寸反滲透RO膜元件:40-80升(取決于污垢程度)
清洗藥劑量每支4英寸反滲透RO膜元件:10-20升(取決于污垢程度)
清洗操作壓力較低的壓力(0.1-0.3MPa),通常不超過0.4MPa
清洗流速每支8英寸反滲透RO膜元件:6-9m3/hr;每支4英寸反滲透RO膜元件:1.8-2.3m3/hr
清洗液溫度盡可能高,但是最高溫度為45攝氏度,通常選擇30-35攝氏度,如果清洗溶液的溫度超過45攝氏度,應安裝冷卻設備
清洗類型每支壓力容器分別交替進行再循環(huán)和浸泡
循環(huán)周期建議0.5-1小時(重復2-3次)
浸泡時間2-24小時(取決于污垢程度)
清洗方法最好進行分段清洗
清洗時間最少1-2小時,取決于污染程度與應用的清洗方法。
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